«Мы продолжаем крайне важную работу по созданию отечественного электронного оборудования. В прошлом году мы завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), заложив основу для развития отечественной производственной линейки. Теперь мы приступаем к разработке новой установки, которая будет работать с пластинами диаметра 200 мм, и, уверен, будет востребована предприятиями и в России, и за рубежом», – подчеркнул генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов.
Михаил Бирюков, генеральный директор НИИТМ:
«Создание отечественной кластерной установки для магнетронного нанесения слоев алюминиевой металлизации, отвечающей текущим стандартам индустрии, станет важной составляющей развития микроэлектроники в России. Разработка кластерного оборудования с восемью технологическими модулями – это новый вызов, который требует решения ряда комплексных научно-технических задач».